2023年度に、応用物理学会内に「半導体分野将来基金」が創設され、その活動の一つとして本表彰制度が設立されました。本表彰では、「シリコン及びその発展系」の分野において顕著な研究業績をあげ、その発展に大きく寄与した方を顕彰するために応用物理学会シリコン系半導体エレクトロニクス高専活性化奨励賞（名取研二高専活性化奨励賞）を設けました。その第1回受賞者に本校電子制御工学科　清原修二准教授が選ばれました。 

受賞理由として、「舞鶴高専での教育は、技術を見、アイディア創出の喜びを知ることで、次世代技術の人材を育成するところにある。技術教育も進め、教育効果を高めており、高専活性化奨励賞に相応しいと判断される。今後も、さらなる技術教育活動もますます進められることを期待するものである。」といった点が評価されました。 

第71回応用物理学会春季学術講演会（東京都市大学）にて、3月22日（金）に授賞式が行われました。その受賞記念講演は3月25日（月）に「室温ナノインプリントによるDLCマイクロ・ナノパターン形成と半導体人材育成」と題して行われました。